Зеленоградский нанотехнологический центр разработал опытную установку электронно-лучевой литографии с проектными нормами 150 нанометров. Оборудование способно создавать фотошаблоны, а также напрямую формировать рисунок микросхемы на кремниевой или другой подложке без применения маски.
Сейчас два опытных образца проходят комплексные испытания. По словам генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, этот этап продлится около четырех месяцев, после чего специалисты начнут проверять точность формирования изображения и другие технологические характеристики оборудования.
О появлении установки стало известно из опубликованного в июне 2026 года тендера на транспортировку опытного образца. Разработка ведется в рамках опытно-конструкторской работы «Прогресс ЭЛЛ 150» и государственной программы «Научно-технологическое развитие Российской Федерации».
Как работает электронно-лучевая литография
При традиционной фотолитографии рисунок микросхемы переносят на пластину через заранее изготовленный фотошаблон. Электронно-лучевая установка действует иначе: сфокусированный пучок электронов последовательно формирует изображение на поверхности, покрытой специальным чувствительным материалом — резистом.
Такая технология позволяет быстро менять рисунок микросхемы без изготовления отдельной маски для каждого нового проекта. Это особенно важно при разработке прототипов, проведении научных исследований и выпуске небольших партий специализированной электроники.
Установка может работать и как оборудование для производства фотошаблонов. В этом случае электронный луч наносит эталонный рисунок будущей микросхемы на специальную заготовку. Готовый шаблон затем используют в фотолитографах для многократного переноса изображения на кремниевые пластины.
Для каких задач подойдет российская установка
Главное преимущество электронно-лучевой литографии — гибкость. Разработчики могут оперативно вносить изменения в топологию изделия, не заказывая новый дорогостоящий комплект фотошаблонов.
Поэтому оборудование подходит прежде всего для научно-исследовательских работ, опытного производства и выпуска небольших серий специализированных электронных компонентов. Оно может быть востребовано в отраслях, где тиражи ограничены, но требуется собственная конструкция микросхемы.
Для массового производства миллионов одинаковых чипов электронно-лучевая запись менее эффективна. Луч формирует рисунок последовательно, поэтому процесс занимает больше времени, чем перенос изображения через готовую маску.
Независимый эксперт и автор проекта RUSmicro Алексей Бойко отметил, что собственный электронно-лучевой литограф актуален для российского рынка с его относительно небольшими объемами заказов. По его словам, установка позволит ускорить прототипирование и снизить расходы на изготовление масок для малосерийных проектов.
Что означает показатель 150 нм
Проектная норма 150 нанометров обозначает минимальный размер отдельных элементов рисунка, которые должна формировать установка. Это не современный уровень производства процессоров для смартфонов и высокопроизводительных компьютеров, однако такие нормы по-прежнему применимы для широкого круга специализированной электроники.
Зрелые технологические процессы востребованы при выпуске контроллеров, датчиков, силовой электроники, промышленных компонентов и микросхем, для которых важнее надежность, доступность и длительный жизненный цикл, а не максимальная плотность транзисторов.
При этом новую разработку не следует напрямую сравнивать с серийным фотолитографом. Электронно-лучевая установка предназначена прежде всего для прямой записи и изготовления фотошаблонов, а не для высокоскоростного массового выпуска процессоров.
Какие сложности предстоит преодолеть
Одной из основных задач станет обеспечение равномерности и точности рисунка по всей рабочей поверхности. Для этого необходимы качественная система управления электронным пучком, точная метрология и стабильные характеристики электронно-чувствительных резистов.
Также российская микроэлектроника остается зависимой от ряда высокоточных компонентов и специальных материалов. Среди наиболее сложных направлений эксперты называют создание лазерных интерферометров, систем температурной стабилизации и резистов для более тонких технологических процессов.
Результаты испытаний должны показать, соответствует ли установка заявленным параметрам и может ли она использоваться в реальных технологических процессах. До их завершения речь идет об опытных образцах, а не о запущенном серийном оборудовании.
Какие литографы ЗНТЦ разрабатывает еще
Ранее Зеленоградский нанотехнологический центр создал фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Оборудование передали компании «Отраслевые решения», входящей в группу компаний «Элемент».
ЗНТЦ также ведет работу над установкой с проектными нормами 130 нанометров. В перспективе разработчики рассчитывают перейти к созданию полностью локализованного литографического оборудования для технологических процессов 90 нанометров.
Если испытания установки «Прогресс ЭЛЛ 150» завершатся успешно, российские предприятия получат собственное оборудование для изготовления фотошаблонов, прототипирования и выпуска небольших партий специализированных микросхем. Следующим этапом станет подтверждение точности записи и подготовка технологии к практическому использованию.
ЧИТАЙТЕ ТАКЖЕ:
- Аршавин объяснил, почему Месси подвел Аргентину в проигранном Испании финале ЧМ-2026
- Уральское море среди лесов: озеро с прозрачной водой, которое выглядит как зарубежный курорт
- Зачем на самом деле нужен ящик под духовкой: годами храним там посуду, а он был создан для другого
- Деньги сами идут к ним в руки: какой знак зодиака считают главным любимчиком Вселенной в вопросах богатства и успеха
- Не успеваете приготовить завтрак? Эти ленивые вареники спасают за 10 минут
- Уральская Карелия: где найти гранитные скалы, прозрачную воду и северную атмосферу
- «Пятница!» раскрыла первых участников нового сезона «Выживалити. Наследники»